康奈尔大学电气与计算机工程和材料科学与工程 William L. Quackenbush 教授Huili Grace Xing(邢慧丽) 因在半导体研究方面的卓越表现而获得半导体行业协会 （SIA） 和半导体研究公司 （SRC） 颁发的 2025 年大学技术研究奖。
Huili Grace Xing，康奈尔大学电气与计算机工程和材料科学与工程 William L. Quackenbush 教授。
SIA 和 SRC 每年都会向在推进半导体技术和设计研究方面表现出色的两位教授颁发大学研究奖。该奖项由 SIA 于 1995 年设立，旨在表彰大学教师对美国半导体行业的终身研究贡献。获奖者由 SRC 董事会、SIA 董事会主席和董事会共同选出。
2025 年奖项于 11 月 6 日宣布，将于 11 月 20 日在加利福尼亚州圣何塞举行的 SIA 颁奖晚宴上正式颁发。密歇根大学计算机科学与工程以及电气与计算机工程科学教授托德·奥斯汀 （Todd Austin） 是大学设计研究奖的获得者。
“研究是我们行业跳动的心脏，推动创新，推动推动我们的经济并改善世界各地的生活，”SIA 总裁兼首席执行官 John Neuffer 说。“邢教授和奥斯汀教授是半导体研究的卓越典范，他们的前沿工作扩大了芯片技术的前沿，并加强了美国作为全球创新领导者的地位。我们很荣幸表彰邢博士和奥斯汀博士的杰出成就。
邢女士因其在III-V族氮化物材料和器件、氧化物材料和器件、二维半导体和层状晶体方面的开创性工作而获奖。她对用于高速、高功率应用的氮化铝和氮化镓等宽禁带半导体的超大规模高电子和空穴迁移率晶体管的研究显着推进了极性半导体在电子和光子学中的应用，例如高频无线通信、固态电子和节能器件。
SRC 总裁兼首席执行官 Todd Younkin 表示：“SRC 研究计划的标志是通过富有远见的研究、深入合作以及学术界、工业界和政府之间对卓越的承诺，始终如一地产生现实世界的影响。“Huili Grace Xing 教授和 Todd Austin 教授体现了这一遗产——不仅通过他们突破性的创新和指导，还通过他们帮助领导的项目的规模和雄心壮志。他们的工作以行业速度发展，展示了公私合作伙伴关系在加速进步和塑造微电子未来方面的力量。
邢的贡献包括基础研究，例如研究原子水平的材料特性，以及应用研究，涉及氮化镓器件在现实场景中的设计和测试。作为 IEEE、AAAS 和 APS 的研究员，邢先生此前曾获得无数奖项，包括英特尔杰出研究员奖、ISCS 青年科学家奖、NSF CAREER 奖和 AFOSR 青年研究员计划奖。
“我真的很谦卑和荣幸获得这个奖项，”邢说。“这一认可凸显了学术界、工业界和政府之间推动半导体技术创新的重要伙伴关系。在过去的二十年里，我有幸担任过各种角色——从贡献 PI 到 JUMP 2.0 中心主任——为这种合作做出了贡献。这个奖项也是对与我分享这段旅程的几代研究生和密切合作者的致敬。
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